- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/105 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p.ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles
Détention brevets de la classe G03F 7/105
Brevets de cette classe: 346
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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FUJIFILM Corporation | 27102 |
68 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 6671 |
41 |
DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1163 |
29 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
24 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
14 |
Toray Industries, Inc. | 6652 |
9 |
Duk San Neolux Co., Ltd. | 512 |
9 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
8 |
Samsung Display Co., Ltd. | 30585 |
7 |
Merck Patent GmbH | 5909 |
7 |
Agfa NV | 642 |
7 |
Cheil Industries Inc. | 944 |
5 |
Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 3891 |
5 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
4 |
Board of Regents, The University of Texas System | 5370 |
4 |
Datalase Ltd. | 115 |
4 |
Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. | 546 |
4 |
Samyang Corporation | 368 |
4 |
Adaptive 3D Technologies | 20 |
4 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
3 |
Autres propriétaires | 86 |